SKIN1004 Madagascar Centella Tea-Trica Relaxing Mask

SKIN1004 Madagascar Centella Tea-Trica Relaxing Mask – maska w płachcie do skóry problematycznej, która pomaga ukoić cerę, ograniczyć widoczność zaczerwienień i wspierać jej równowagę hydrolipidową.

Lekka esencja odświeża skórę, pomaga zmniejszyć uczucie dyskomfortu i nie pozostawia lepkiej ani tłustej warstwy. Formuła wspiera kontrolę sebum, poprawia wygląd porów i pomaga ograniczyć skłonność do powstawania zaskórników.

Zalety:

• Pomaga ukoić skórę i zmniejszyć uczucie podrażnienia
• Wspiera komfort skóry problematycznej
• Pomaga kontrolować nadmiar sebum
• Ogranicza widoczny połysk
• Pomaga poprawić wygląd porów
• Nie pozostawia lepkiej ani tłustej warstwy

Dla kogo:

• Dla skóry normalnej
• Dla skóry mieszanej
• Dla skóry tłustej
• Dla skóry problematycznej
• Dla skóry skłonnej do zaczerwienień
• Dla osób, które chcą lekkiego ukojenia i odświeżenia

Główne składniki:

• Tea Tree Leaf Oil & Hydrolat 47 100 ppm – pomagają odświeżać skórę, wspierać oczyszczenie i ograniczać widoczność niedoskonałości
• Centella Asiatica Extract – pomaga koić, nawilżać i wspierać barierę ochronną skóry

Sposób użycia:

Po oczyszczeniu, tonizacji i zastosowaniu serum nałóż SKIN1004 Madagascar Centella Tea-Trica Relaxing Mask na twarz i dokładnie dopasuj do skóry. Zdejmij po 10–20 minutach, a pozostałą esencję delikatnie wklep do wchłonięcia. W razie potrzeby zakończ pielęgnację kremem.

FAQ

Czy SKIN1004 Madagascar Centella Tea-Trica Relaxing Mask pozostawia lepką warstwę?
Nie, esencja ma lekką, odświeżającą konsystencję, która wchłania się bez uczucia lepkości i tłustego połysku.

Jak często można stosować SKIN1004 Madagascar Centella Tea-Trica Relaxing Mask?
Maskę można stosować doraźnie, gdy skóra potrzebuje ukojenia i odświeżenia, lub regularnie, zależnie od potrzeb cery.

Czy po SKIN1004 Madagascar Centella Tea-Trica Relaxing Mask trzeba nakładać krem?
Nie jest to konieczne, ale przy skórze potrzebującej dodatkowego domknięcia pielęgnacji można nałożyć krem po wchłonięciu esencji.